Sistemi per la produzione di acqua ultrapura per semiconduttori

L'acqua ultrapura (UPW) viene utilizzata negli impianti di produzione per rimuovere i sali inorganici e le sostanze organiche dalla superficie dei wafer, la cui presenza influisce direttamente sul numero di chip o dispositivi che possono essere prodotti. Considerando che in genere vengono utilizzati 1.500 litri di UPW per lavare un singolo wafer di silicio, si può affermare con certezza che l'UPW è il fondamento invisibile della produzione di semiconduttori.

Da oltre quarant'anni, Veolia progetta, costruisce e gestisce sistemi UPW per gli impianti di produzione più avanzati al mondo, combinando un'esperienza globale con una produzione di precisione e il controllo remoto digitale. Le nostre soluzioni garantiscono assoluta costanza e continuità operativa, consentendo incrementi di produzione più rapidi, rese maggiori e un costo totale di proprietà inferiore.

Veolia collabora con i principali produttori di semiconduttori al mondo per fornire sistemi di acqua ultrapura progettati per far fronte alle esigenze di oggi e di domani.

La nostra esperienza copre l'intero ciclo di vita dell'UPW: dalla progettazione e fabbricazione del sistema fino alla messa in servizio, al funzionamento e all'ottimizzazione continua. Che tu stia costruendo un nuovo impianto o aggiornando un impianto esistente, garantiamo purezza ripetibile, controllo digitale e affidabilità a lungo termine in ogni singola goccia.